Atomic Layer Deposition
Atomic Layer Deposition (ALD, no hay una traducción clara al español) es una técnica para crecer materiales en forma de láminas delgadas (lo que se llama thin films en inglés).
La idea central del ALD es la idea que en toda superficie hay un cierto número de sitios que son reactivos. Si escontramos moléculas que una vez que reaccionan con la superficie desactivan uno de los sitios, podemos cubrir la superficie del material con fragmentos de moléculas. Por ejemplo:
La innovación del ALD es alternar dos tipos de moléculas distintas: una que introduce un átomo del material que estás intentando crecer (por ejemplo aluminio en el caso del óxido de aluminio) y otra cuya función es completar la estoquiometría y volver a regenerar la superficie para que vuelva a ser reactiva (en este caso, vapor de agua). Esto permite crecer un material monocapa a monocapa.